Achtes Kolloquium über Metallkundliche Analyse mit Besonderer Berücksichtigung der Elektronenstrahl- und Ionenstrahl-Mikroanalyse Wien, 27. bis 29. Oktober 1976

Author:   M.K. Zacherl
Publisher:   Springer Verlag GmbH
Edition:   Softcover reprint of the original 1st ed. 1977
Volume:   7
ISBN:  

9783211814338


Pages:   596
Publication Date:   29 June 1977
Format:   Paperback
Availability:   In Print   Availability explained
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Achtes Kolloquium über Metallkundliche Analyse mit Besonderer Berücksichtigung der Elektronenstrahl- und Ionenstrahl-Mikroanalyse Wien, 27. bis 29. Oktober 1976


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Overview

Die chemische Zusammensetzung der Oberfläche von Materia- lien, die aus zwei oder mehr Komponenten bestehen, wird sehr oft durch den Einfluß der Primärelektronen sowie durch das Zerstäu- ben, wie es zur Reinigung der Probenoberfläche, bzw. zur Aufnahme von Tiefenprofilen verwendet wird, drastisch verändert. In einer quantitativen Beschreibung der Oberflächenzusammensetzung müs- sen daher die verschiedenen Effekte, die durch die primären Elek- tronen oder Ionen hervorgerufen werden, grundsätzlich berücksich- tigt werden. Entsprechend der Verschiedenartigkeit der auftreten- den Effekte scheint es unmöglich, dafür ein allgemeingültiges Modell aufzustellen. Mit der vorliegenden Arbeit wird versucht, den Einfluß der er- wähnten Primärteilchen bei der Untersuchung von Oxiden, Carbo- naten, Silikaten und Legierungen zu demonstrieren. Im zweiphasi- gen Legierungssystem Ag-Cu zeigte sich ein zusätzlicher Effekt, der durch die bevorzugte Oberflächendiffusion von Silber erklärt wer- den kann. Summary Influence of the Prohing Electron Beam and Sputtering in AES The prohing electron beam and sputtering used for cleaning and depth profiling influences the chemical composition of composite materials often in a dramatic way. Therefore, in a complete analysis several effects in- duced by the incident electrons or ions have to be included in a quantitative description of the surface composition. No general model can be given as these effects depend on the type of material investigated. The present paper deals with oxides, carbonates, silicates, and alloys to show the influence of the prohing electrons or ions.

Full Product Details

Author:   M.K. Zacherl
Publisher:   Springer Verlag GmbH
Imprint:   Springer Verlag GmbH
Edition:   Softcover reprint of the original 1st ed. 1977
Volume:   7
Dimensions:   Width: 15.20cm , Height: 3.10cm , Length: 22.90cm
Weight:   1.150kg
ISBN:  

9783211814338


ISBN 10:   3211814337
Pages:   596
Publication Date:   29 June 1977
Audience:   Professional and scholarly ,  Professional & Vocational
Format:   Paperback
Publisher's Status:   Active
Availability:   In Print   Availability explained
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Language:   German

Table of Contents

Bedeutung und Moeglichkeiten der Reinststoffanalytik in der Metallforschung.- Die Bestimmung kleinster N2- und CO-Gehalte in hochschmelzenden Metallen durch tiegelfreie Heissextraktion im Ultrahochvakuum.- Einsatz moderner instrumenteller Methoden zur Spurenanalyse in hochschmelzenden Metallen.- Applications of Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS).- A Comparison of Quantitative Models for SIMS Analysis.- Ermittlung kleiner Diffusionskoeffizienten mittels SIMS in oxydischen Verbindungen.- Oberflachen- und Tiefenanalyse mit der Auger-Elektronen-Spektroskopie (AES).- Einfluss des Elektronenstrahls und des Zerstaubens bei der AES.- Oberflachenuntersuchungen an Metallen und Legierungen mit ESCA.- Coating-Untersuchungen mit modernen physikalischen Methoden.- Untersuchung dunner Schichten im Rasterelektronenmikroskop.- Dunnschichtanalysen in der Elektronensonde.- Farbtechniken in der Rasterelektronenmikroskopie und Mikroanalyse.- Bremsstrahlungsuntergrund massiver Proben bei der Elektronenstrahlmikroanalyse.- Statistische Messfehler und Aufloesungsgrenzen in der energiedispersiven Roentgenanalyse.- Methoden der energiedispersiven Elektronenstrahl-Mikroanalyse in der Metallkunde.- Energiedispersive Roentgenanalyse an Einschlussen und Ausscheidungen unter besonderer Berucksichtigung der Matrixeinflusse.- Zum Einsatz des Mikroanalysators fur die Untersuchung der Elektronenstruktur der Festkoerper.- Auswertung von Roentgenvalenzbandspektren mittels mathematischer Methoden.- Die Bindung leichter Elemente in oberflachennahen Schichten metallischer Bauteile.- Ein Zwei-Platten-Multiplier fur das Gebiet der ultraweichen Roentgenstrahlung.- Untersuchungen uber die Verwendung von Beryllium-Aufdampfschichten in der ESMA.- Ermittlung von Diffusionssperrschichten bei der Bildung von Nb3Sn-Schichten in Supraleitern mit Hilfe der Elektronenstrahlmikroanalyse.- Chemische Diffusion im ternaren System Zr-Al-O.- Mikroanalytische Untersuchungen hochwarmfester Legierungen fur Gasturbinenschaufeln.- Mikroanalytischer Aufbau von Bad- und Spritzschlacken eines Chromnickelstahles im Elektroofenprozess.- Analyse von Edelmetall-Keramik-Verbindungen fur dentale Anwendungen.- Untersuchung des Mikrogefuges Hf-haltiger Ni-Basis-Superlegierungen.- Korrosion von austenitischen Stahlen in flussigem Natrium.- Elektronenstrahlmikroanalyse im Dienste der Archaologie.- Verhalten nichtmetallischer Gefugebestandteile der Stahle beim Erhitzen in Wasserstoff.- Analysengenauigkeit bei der Bestimmung thermodynamischer Werte im System Ni-C bzw. Ni-CrC.- Quantitative Untersuchungen des Ausscheidungsverhaltens der Carbidphasen in X5Cr25 nach elektrochemischer Phasenisolierung.- Automatische, chemisch-spezifische Gefugeanalyse - Hardware, Software, Anwendung.- UEber das Ausscheidungs- und Korrosionsverhalten niobstabilisierter, korrosionsbestandiger Reaktorstahle.- Die Bestimmung nichtmetallischer Einschlusse in metallischen Werkstoffen nach Ultraschall-Bruchen.- Das Verhalten von Mangan-Chrom-Spinellen bei der Oxidisolierung aus legierten Stahlen.- Gedanken zu einer eichprobenfreien Roentgenfluoreszenzanalyse.- Nichtdispersive Roentgendiffraktometrie mit Halbleiterdetektoren.- Quantitative Roentgenfluoreszenz- und Beugungsanalysen an dunnen Schichten.- Zum analytischen Einsatz von Festelektrolyt-Sonden. Sauerstoffbestimmung in multinaren Metallschmelzen.

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